與傳統(tǒng)的方法相比，等離子體表面處理具有成本低、無廢棄物、沒有污染等顯著的優(yōu)點，同時可以得到傳統(tǒng)的化學(xué)方法難以達(dá)到的處理效果。現(xiàn)在低溫等離子設(shè)備廣泛運用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫消菌及污染治理等多種領(lǐng)域。
等離子設(shè)備主要適用于各種材料的表面改性處理：表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及等離子體輔助化學(xué)氣相沉積。
廣泛應(yīng)用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫消菌及污染治理等多種領(lǐng)域，是企業(yè)、科研院所進(jìn)行等離子體表面處理的理想設(shè)備。及印刷包裝行業(yè)、汽車制造行業(yè)、塑料橡膠行業(yè)、光電制造行業(yè)、金屬涂裝行業(yè)、化纖及紡織行業(yè)、化纖及紡織行業(yè)、印刷噴碼行業(yè)。
等離子設(shè)備中頻，射頻等離子處理機(jī)型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設(shè)備和噴射、準(zhǔn)輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設(shè)備；
等離子處理機(jī)具有高穩(wěn)定性、高性價比、高均勻性等諸多優(yōu)點。
特色鮮明的處理腔體形狀和電_結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
低溫等離子體表面處理設(shè)備、水平式低溫等離子體表面處理設(shè)備、卷對卷式低溫等離子體表面處理設(shè)備、以及大氣壓輝光放電表面處理設(shè)備。